第8回 次世代電子実装システム技術講演会

KISTEC Innovation Hub 2024 フォーラム番号:E15-1

第8回 次世代電子実装システム技術講演会


次世代半導体に向けた先端技術の紹介                         

本講演会では、 次世代半導体に向けて、先端パッケージ向けガラスマイクロビアアブレーション加工用高出力KrFレーザのビームの開発や、半導体フォトカソードによるパルス電子ビームを用いた深溝構造のSEM観測事例、次世代高度パッケージング向けの新コンセプトのフォトイメージャブル誘電体材料の開発および次世代電子実装システム技術研究会の取り組みについて紹介します。

お申込みを締め切りました。たくさんのお申込みをありがとうございました。

日時・開催方法


日時

11月15日(金)
13:00~15:00

開催方法

ハイブリッド開催

定員

対面30名/オンライン70名

会場

対面
KISTEC海老名本部
2階 カンファレンスルーム

会場へのアクセス方法

オンライン
Zoom

フォーラム詳細


時間タイトル講師名講師所属
13:00-13:30先端パッケージ向けガラスマイクロビアアブレーション加工用高出力KrFレーザのビーム品質向上川筋 康文ギガフォトン株式会社
13:30-14:00半導体フォトカソードによるパルス電子ビームを用いた深溝構造のSEM観測荒川 裕太株式会社Photo electron Soul
14:00-14:30次世代電子実装システム技術研究会の取り組み根本 俊介KISTEC 電子技術部
14:30-15:00Development of New Concept Photo Imageable Dielectric Materials for Next-Generation Advanced Packaging佐藤 一樹東京応化工業株式会社

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