光学多層薄膜上の異常部の解析事例
光学多層薄膜上にて確認された、突起のような異常部の発生原因について調査しました。
＜試料＞
光学多層薄膜（SiO2(基板)/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2…）
※SEM観察のためPtをコート済み
＜使用機器＞
集束イオンビーム装置（FIB-SEM/EDS）
異常部表面の元素分析
→ 正常部(1)と異常部(2)に明確な差異は見られず。
異常部をFIBにて断面加工してSEM観察
→ 異常部の最下層に異物と空隙を発見。
異常部断面の元素分析
→ 成膜前の基板上の異物が原因と考えられる