光学多層薄膜上の異常部の解析事例
光学多層薄膜上にて確認された、突起のような異常部の発生原因について調査しました。
<試料>
光学多層薄膜(SiO2(基板)/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2…)
※SEM観察のためPtをコート済み
<使用機器>
集束イオンビーム装置(FIB-SEM/EDS)
異常部表面の元素分析
![異常部のEDS点分析](/kistec-manage/wp-content/uploads/KD3NA215_f001-1-1024x717.png)
→ 正常部(1)と異常部(2)に明確な差異は見られず。
異常部をFIBにて断面加工してSEM観察
![FIB加工した異常部断面のSEM観察](/kistec-manage/wp-content/uploads/KD3NA215_f002-1-1024x616.png)
→ 異常部の最下層に異物と空隙を発見。
異常部断面の元素分析
![異常部断面のEDS面分析](/kistec-manage/wp-content/uploads/KD3NA215_f003-1-1024x533.png)
→ 成膜前の基板上の異物が原因と考えられる