走査型Ｘ線光電子分光分析装置（μ‐XPS ・ μ-ESCA）

特徴

・ビーム径9µm～200μmでの微小部分析
・試料最表面の元素分析、化学結合状態分析

メーカー

アルバック・ファイ社

形式

Quantera SXM

仕様

用途

・目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析
・表面改質評価
・金属薄膜の組成、化学結合状態の評価
・物質表面のしみ、変色分析
・電子材料の故障解析

試料表面にX線を照射するとX線に励起された原子から電子（光電子）が放出される。
　照射するX線のエネルギーが一定なので、光電子の運動エネルギーを測定すれば電子の結合エネルギーが求められる。
Ekin ＝hv－Eb－Φ

内殻電子の結合エネルギーは原子によって固有の値を有するので、結合エネルギーを測定することによって元素の同定を行うことができる。
　また、原子の化学結合状態が異なると結合エネルギーの値は微妙に変化する。変化した値を測定することによって、元素の化学結合状態分析を行うことができる。

　光電子の運動エネルギーは小さく、深いところで発生した光電子は内部で吸収され外へ脱出することができないため、浅いところで発生した光電子のみが検出されることとなる。そこで、表面から数nmの深さまでのみの分析を行うことができる。

観察例
　・極薄いシミの分析ができます
使用機器
　・Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）
　・アルバック・ファイ社　　Quantera SXM
分析例
　・金（Au）メッキ表面の極薄いシミの分析
　・XPSワイドスキャンによる元素分析および簡易定量

観察例
　・ポリエチレン・ポリプロピレン（PE・PP）不織布の表面について
　・親水性コロナ処理の評価事例
使用機器
　・Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）
　・アルバック・ファイ社　　Quantera SXM
分析例
　・PE・PP不織布の親水性コロナ処理表面の分析
　・XPSワイドスキャンによる元素分析および簡易定量

コロナ処理ありの炭素スペクトルピーク分離

ピーク分離結果