2021年2月5日
光干渉式膜厚測定装置
概要
【用途・特徴】
半導体プロセスにおける各種膜を光学式により非接触で膜厚測定します。
機器情報
| メーカー名 | 大日本スクリーン製造株式会社 |
|---|---|
| 型番 | ラムダエース VM-8000J |
| 仕様 | 測定対象膜SiO2（酸化シリコン）、Si3N4（窒化シリコン）、レジスト、ポリSi（ポリシリコン）、ポリイミド／測定範囲10nm～20μm（膜種による）／測定再現精度0.1nm：膜厚10nm～3μm，0.03%：膜厚3μm～20μm／測定時間：約１秒 |
| 導入年度 | 1996 |
ご利用方法
依頼試験（KISTEC事業名：試験計測）、機器使用で利用できます。
機器使用料金
| NO. | 設備機器名 | メーカー・型式 | 料金 |
|---|---|---|---|
| E6950 | 光干渉式膜厚測定装置 | 大日本スクリーン VM-8000J | 3,080円 |