2021年2月3日
磁性薄膜用三元スパッタ装置
概要
【用途・特徴】
rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製
機器情報
メーカー名 | 日電アネルバ株式会社 |
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型番 | L-332S-FH |
仕様 | 平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き |
導入年度 | 1996 |