2021年2月3日
磁性薄膜用三元スパッタ装置
概要
【用途・特徴】
rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製／各種薄膜作製
機器情報
| メーカー名 | 日電アネルバ株式会社 |
|---|---|
| 型番 | L-332S-FH |
| 仕様 | 平行平板型マグネトロンスパッタリング／rf電源：600W、DC電源500W／3インチマグネトロンカソード：3基（強磁性体用２基、rf用3基、DC用1基）／基板加熱：最高300℃／基板回転機構付き(5rpm)／膜厚分布：±10%以内（中心よりΦ200mm内）／Arガス流量制御器付き |
| 導入年度 | 平成8年度 |