磁性薄膜用三元スパッタ装置

電子技術部
海老名
  • 微細加工
  • 電子材料
  • 電気・電子製品
  • #薄膜作成・成膜
  • #電子・半導体
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概要

【用途・特徴】
rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製

機器情報

メーカー名 日電アネルバ株式会社
型番 L-332S-FH
仕様 平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き
導入年度 1996