2021年2月3日

酸化拡散装置

電子技術部
海老名
  • 半導体・実装
  • 電気・電子製品
  • #薄膜作成・成膜
  • #電子・半導体
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概要

【用途・特徴】
酸素や水蒸気を利用し、Si（シリコン）ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。

機器情報

メーカー名 KHエレクトロニクス株式会社
仕様 抵抗加熱式横型／温度範囲400～1200℃／ウエハサイズ4インチ以下（推奨は3インチまで）／ドライ酸化、ウエット酸化
導入年度 平成元年度

ご利用方法

依頼試験（KISTEC事業名：試験計測）、機器使用で利用できます。

機器使用料金

NO. 設備機器名 メーカー・型式 料金
E6740 酸化拡散装置 ＫＨエレクトロニクス　　特別仕様 19,360円
※ 特に表記のない場合は、1時間当たりの料金となります。