2021年2月3日
酸化拡散装置
概要
【用途・特徴】
酸素や水蒸気を利用し、Si（シリコン）ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。
機器情報
| メーカー名 | KHエレクトロニクス株式会社 |
|---|---|
| 仕様 | 抵抗加熱式横型／温度範囲400～1200℃／ウエハサイズ4インチ以下（推奨は3インチまで）／ドライ酸化、ウエット酸化 |
| 導入年度 | 1989 |
ご利用方法
依頼試験（KISTEC事業名：試験計測）、機器使用で利用できます。
機器使用料金
| NO. | 設備機器名 | メーカー・型式 | 料金 |
|---|---|---|---|
| E6740 | 酸化拡散装置 | ＫＨエレクトロニクス 特別仕様 | 19,360円 |