概要

【用途・特徴】
真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。

機器情報

メーカー名	日本真空技術株式会社
型番	特殊仕様
仕様	13.56MHz、500W RF電源／基板加熱温度：350℃／基板：4インチ以下／導入可能ガス：水素、アルゴン
導入年度	1986

ご利用方法

依頼試験（KISTEC事業名：試験計測）で利用できます。