2021年2月2日
プラズマ処理装置
概要
【用途・特徴】
真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、原料ガスをプラズマで分解する装置です。減圧下で、水素プラズマ処理が可能です。
機器情報
| メーカー名 | 日本真空技術株式会社 |
|---|---|
| 型番 | 特殊仕様 |
| 仕様 | 13.56MHz、500W RF電源／基板加熱温度：350℃／基板：4インチ以下／導入可能ガス：水素、アルゴン |
| 導入年度 | 1986 |
使用機器USED EQUIPMENT