概要

【用途・特徴】
シリコンや炭化ケイ素（SiC）の半導体用の専用熱処理炉です。
真空、不活性ガス（Arガス）雰囲気で熱処理可能です。

機器情報

メーカー名	株式会社ナガノ
型番	NEWTONIAMPASCAL40
仕様	使用可能温度：～1800℃／ 雰囲気：　真空中／Ar雰囲気中 試料寸法：φ35㎜以下、 高さ35mm以下
導入年度	1992