X線光電子分光分析装置(走査型・XPS)[Quantera SXM]

川﨑技術支援部
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X線光電子分光分析装置(走査型・XPS)[Quantera SXM]

概要

極表面に、どのような元素が存在するか分析することができます。
試料表面の極薄い層(数nm)の元素分析(水素、ヘリウム以外)、半定量分析(検出限界~0.1at%程度)および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。

【特徴】
・ビーム径9µm~200µmでの微小部分析
・試料最表面の元素分析、化学結合状態分析

-応用例-
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析 
♣ 表面改質評価 
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価 
♣ 物質表面のしみ、変色分析 
♣ 電子材料の故障解析 

機器情報

メーカー名 アルバック・ファイ株式会社
型番 Quantera SXM
仕様 ・X線源 : Al KaモノクロX線
・X線ビーム径 : 分析可能最小ビーム径:9µm
・試料サイズ : W70×D70×H18mm 以下
・その他 : Arイオン銃、中和銃
導入年度 2010

ご利用方法

試験計測(依頼試験)、技術開発受託で利用できます。