2021年3月1日

Ｘ線光電子分光分析装置（走査型・XPS）[Quantera SXM]

川﨑技術支援部

溝の口

概要

極表面に、どのような元素が存在するか分析することができます。
試料表面の極薄い層（数nm）の元素分析（水素、ヘリウム以外）、半定量分析（検出限界～0.1at%程度）および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。

【特徴】
・ビーム径9µm～200µmでの微小部分析
・試料最表面の元素分析、化学結合状態分析

－応用例－
薄膜、多層膜分析。
物質表面の変色、汚染、付着分析。
電子材料の不具合分析。
目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析。
表面処理、ぬれ性など表面改質分析。
腐食、接合などのトラブル解析。

用途
♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析　
♣ 表面改質評価　
♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価　
♣ 物質表面のしみ、変色分析　
♣ 電子材料の故障解析　

メーカー名	アルバック・ファイ株式会社
型番	Quantera SXM
仕様	・Ｘ線源　：　Al KaモノクロＸ線・Ｘ線ビーム径　：　分析可能最小ビーム径：9µm ・試料サイズ　：　W70×D70×H18mm 以下・その他　：　Arイオン銃、中和銃
導入年度	2010

依頼試験（KISTEC事業名：試験計測）、委託受託（KISTEC事業名：技術開発受託）で利用できます。