イオンミリング装置(低エネルギー型)[Gentle Mill IV5]

川﨑技術支援部
溝の口
  • 試料調製・前処理
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  • #微細加工
イオンミリング装置(低エネルギー型)[Gentle Mill IV5]

概要

透過電子顕微鏡(TEM)サンプルのダメージ層除去ならびに薄片化の専用装置です。TEMサンプルがダメージ層に覆われて観察しにくい、厚いため電子線が透過しにくいときなどに、アルゴンイオンビームを照射することで、より良いTEMサンプルを作製することができます。

特徴

・集束イオンビーム装置(FIB)で作製したTEMサンプルのダメージ層を除去することができます。
・試料回転ステージにより、360°全方向から任意の方向でビーム照射が可能です。
・サンプルを薄片化することで、高分解能観察が可能となります。

機器情報

メーカー名 リンダ社
型番 Model Ⅳ5
仕様 加速電圧:100V~2kV
ビーム入射角度:1~45°
オシレーション機能:1~120°
試料サイズ:3mmφメッシュ、FIB用各種メッシュ
導入年度 2012

ご利用方法

依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)で利用できます。

機器使用料金

NO. 設備機器名 メーカー・型式 料金
K2425 低エネルギーイオン研磨装置 [Model IV5(ジェントルミル)] リンダ Model IV5(ジェントルミル) 12,100円