2021年3月1日
イオンミリング装置(低エネルギー型)[Gentle Mill IV5]
概要
透過電子顕微鏡(TEM)サンプルのダメージ層除去ならびに薄片化の専用装置です。TEMサンプルがダメージ層に覆われて観察しにくい、厚いため電子線が透過しにくいときなどに、アルゴンイオンビームを照射することで、より良いTEMサンプルを作製することができます。
特徴
・集束イオンビーム装置(FIB)で作製したTEMサンプルのダメージ層を除去することができます。
・試料回転ステージにより、360°全方向から任意の方向でビーム照射が可能です。
・サンプルを薄片化することで、高分解能観察が可能となります。
機器情報
メーカー名 | リンダ社 |
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型番 | Model Ⅳ5 |
仕様 | 加速電圧:100V~2kV ビーム入射角度:1~45° オシレーション機能:1~120° 試料サイズ:3mmφメッシュ、FIB用各種メッシュ |
導入年度 | 平成24年度 |
ご利用方法
依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)で利用できます。
機器使用料金
NO. | 設備機器名 | メーカー・型式 | 料金 |
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K2425 | 低エネルギーイオン研磨装置 [Model IV5(ジェントルミル)] | リンダ Model IV5(ジェントルミル) | 12,100円 |