2024年8月21日
酸化拡散試験
酸素や水蒸気を利用し、Si(シリコン)ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。
【試験対象】
Siウェハ
4インチウェハに対応(推奨は3インチまで)/温度範囲400~1200℃/ドライ酸化、ウエット酸化
使用機器
料金
NO. | 項目 | 単位 | 料金 |
---|---|---|---|
E1120 | 酸化拡散試験 | 1時間当たり | 23,650円 |
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2024年8月21日
酸素や水蒸気を利用し、Si(シリコン)ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。
【試験対象】
Siウェハ
4インチウェハに対応(推奨は3インチまで)/温度範囲400~1200℃/ドライ酸化、ウエット酸化
NO. | 項目 | 単位 | 料金 |
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E1120 | 酸化拡散試験 | 1時間当たり | 23,650円 |