電子線リソグラフィによる電子線レジスト樹脂への高精細パターン形成

【試験対象】
　ウエハサイズ：3インチφ、4インチφ 小片試料サイズ：10mm角、20mm角、25mm角 マスクサイズ：4インチ角、5インチ角 試料サイズが4インチ以上の場合、試料上でパターン形成ができない場所が一部あります。
　「E1200　電子線リソグラフィ」に必要な試料調製（電子線レジストの塗布処理、現像処理）については「E1201　電子線リソグラフィ　試料調製」で対応します。
　塗布処理については、電子線レジストは高価な材料であることから依頼者の持ち込みなどで対応いたしますので、ご相談ください。

数十～数百ナノメートルの微細パターンの形成加工や電子線描画処理が可能です。 応用例：研究、開発段階での微細パターンの試作、薄膜パターニング、ナノインプリント用型の形成、微細構造を利用した表面加工(光の反射率低減など)、高周波増幅器、センサー類の作製など

使用機器

料金

NO.	項目	単位	料金
E1200	電子線リソグラフィ	１時間当たり	10,670円
E1201	電子線リソグラフィ試料調製	１試料につき	9,350円

担当部署

電子技術部　電子材料グループ