分析透過電子顕微鏡（FE-TEM／EDS）は、多次元に渡る高速組成分析に特化した走査・透過型電子顕微鏡（S/TEM）システムです。最先端のEDS と高いSTEM、TEM 分解能を備えており、ナノ領域での様々な研究・解析に最適です。

■用途
・マクロからナノレベルの観察、元素分析
・電子線回折を用いた結晶情報取得
・電子線耐性が低いソフトマテリアルへの対応
・トモグラフィーシステムを用いた観察画像、元素マッピング画像の三次元化
・加速電圧：200kV（標準）、120kV、80kV
・分解能：TEM 0.12nm（200kV）、STEM 0.16nm（200kV）
・プローブ電流：1.5nm＠1nm
・TEMボトムマウントカメラ：4,096×4,096 CMOS
・STEM検出器：BF,DF,HAADF（同時取得可）
・EDS検出器：X型配置4SDD
・分析対象元素：B～U

TEM試料調製　FIB-リフトアウト法

透過電子顕微鏡（TEM）の観察は、観察対象とするサンプルを約100nm以下の厚さに加工しなければ電子が透過しないことから、観察、分析をすることができません。FIB-リフトアウト法は集束イオンビーム装置（FIB）で観察対象を薄片化した後、マニピュレーターを用いて薄片化サンプルをTEM用メッシュへ固定します。

TEM試料調製　FIB-マイクロプロービング法 低加速ガリウムイオン

透過電子顕微鏡（TEM）の観察は、観察対象とするサンプルを約100nm以下の厚さに加工しなければ電子が透過しないことから、観察、分析をすることができません。集束イオンビーム装置（FIB）で観察対象を薄片化することにより、TEM試料を作製することができます。また、局所箇所をピンポイントで加工することも可能です。

※最終の仕上げ面は、低加速ガリウムイオンを用いております。

TEM試料調製　FIB-マイクロプロービング法　アルゴンイオンミリング

透過電子顕微鏡（TEM）の観察は、観察対象とするサンプルを約100nm以下の厚さに加工しなければ電子が透過しないことから、観察、分析をすることができません。集束イオンビーム装置（FIB）で観察対象を薄片化することにより、TEM試料を作製することができます。また、局所箇所をピンポイントで加工することも可能です。

※最終の仕上げ面は、低加速ガリウムイオン加工後にアルゴンイオンミリングによるクリーニング処理を行います。

TEM試料調製　低エネルギーイオンミリング　（ジェントルミル）

透過電子顕微鏡（TEM）サンプルのダメージ層除去ならびに薄片化の専用装置です。TEMサンプルがダメージ層に覆われて観察しにくい、厚いため電子線が透過しにくいときなどに、アルゴンイオンビームを照射することで、より良いTEMサンプルを作製することができます。

使用機器

料金

観察条件および撮影枚数により費用は変わりますので、詳細は担当職員にお問い合わせください。
ご要望に応じて見積書を作成いたします。

※注）試料作製のみ希望の場合は、TEMによる薄片化の確認作業料金が加算されます。
・K1740　電界放出型透過電子顕微鏡（FE-TEM）による観察（10万倍以下）：18,590円
ご要望に応じて見積書を作成いたします。

NO.	項目	単位	料金
K1740	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 10万倍以下	観察倍率10万倍以下　 １視野につき	19,690円
K1741	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 10万倍以下　１視野追加	観察倍率10万倍以下　 同条件１視野追加につき	9,900円
K1745	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 10万倍を超えて50万倍以下	観察倍率10万倍を超えて50万倍以下　 １視野につき	26,840円
K1746	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　 10万倍を超えて50万倍以下　１視野追加	観察倍率10万倍を超えて50万倍以下　 同条件１視野追加につき	14,850円
K1750	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 50万倍を超えて200万倍以下	観察倍率50万倍を超えて200万倍以下　 １視野につき	35,530円
K1751	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 50万倍を超えて200万倍以下　１視野追加	観察倍率50万倍を超えて200万倍以下　 同条件１視野追加につき	19,690円
K1755	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 200万倍を超えるもの	観察倍率200万倍を超えるもの　 １視野につき	51,370円
K1756	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 200万倍を超えるもの　１視野追加	観察倍率200万倍を超えるもの　 同条件１視野追加につき	30,690円
K1760	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 試料傾斜調整	試料傾斜調整　 １条件につき	13,530円
K1761	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 制限視野回折	制限視野回析　 １視野につき	17,160円
K1768	分析透過電子顕微鏡観察（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 条件追加	１条件追加につき	12,210円
K1770	分析透過電子顕微鏡（FE-TEM/EDS）[Talos F200X]　　 エネルギー分散型Ｘ線分析（EDS）面分析	面分析　 １視野５元素ごとに、または２時間につき	108,900円
K1410	TEM試料調製　　分散法　ふりかけ法	ふりかけ法　１試料につき	6,600円
K1411	TEM試料調製　　分散法　懸濁法	懸濁法　１試料につき	13,090円
K1425	TEM試料調製　　低エネルギーイオンミリング　 （ジェントルミル）	１試料１条件につき	14,850円
K1432	TEM試料調製　　電子染色	１試料につき	29,260円
K1433	TEM試料調製　　樹脂包埋	１試料につき	14,190円
K1620	TEM試料調製　　FIB-リフトアウト法	１試料につき	88,440円
K1621	TEM試料調製　　FIB-リフトアウト法　条件追加	１条件追加につき	32,120円
K1625	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　 低加速ガリウムイオン	低加速ガリウムイオン仕上げ　 １試料につき	122,100円
K1663	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　　 低加速ガリウムイオン　試料作製のみ	低加速ガリウムイオン仕上げ　 １試料につき（試料作製のみ）	134,640円
K1626	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　　 低加速ガリウムイオン条件追加	低加速ガリウムイオン仕上げ　 １条件追加につき	32,450円
K1627	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　 　 アルゴンイオンミリング	アルゴンイオンミリング仕上げ　 １試料につき	137,500円
K1666	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　 　 アルゴンイオンミリング　試料作製のみ	アルゴンイオンミリング仕上げ　 １試料につき（試料作製のみ）	149,380円
K1628	TEM試料調製　　FIB-マイクロプロービング法　 　 アルゴンイオンミリング条件追加	アルゴンイオンミリング仕上げ　 １条件追加につき	32,450円

担当部署

川崎技術支援部　微細構造解析グループ