イオンミリングを活用しためっき層のSEM観察事例

川﨑技術支援部
溝の口
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Au/Ni/Cu(母材)の各層の膜厚やピンホール等の断面構造を明らかにしました。

<試料>
Au/Niめっき/Cu母材
<使用機器>
精密機械研磨装置(EM-TXP)
断面試料作製用イオンミリング装置
電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)

<測定例>

異なる前処理を行った試料の断面SEM像
目的に対して不十分な前処理では、必要な情報が得られません。

<応用例>

Auめっき層内ピンホールの定量評価

Auめっき層内ピンホールの定量評価

観察において前処理は重要な工程
   →正しい情報を捉えることで様々な評価が可能です。

使用機器

精密機械研磨装置 [Leica EM-TXP]
イオンミリング装置 [IB-19520CCP]
走査電子顕微鏡(電界放出型・FE-SEM/EDS/EBSD)[JSM-7800F Prime]

ご利用方法

依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)で利用できます。