2022年12月10日
イオンミリングを活用しためっき層のSEM観察事例
Au/Ni/Cu(母材)の各層の膜厚やピンホール等の断面構造を明らかにしました。
<試料>
Au/Niめっき/Cu母材
<使用機器>
精密機械研磨装置(EM-TXP)
断面試料作製用イオンミリング装置
電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)
<測定例>

<応用例>
Auめっき層内ピンホールの定量評価

観察において前処理は重要な工程
→正しい情報を捉えることで様々な評価が可能です。
使用機器
ご利用方法
依頼試験(KISTEC事業名:試験計測)で利用できます。