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2024年12月9日
耐腐食電極形成に向けた卑金属への炭化ケイ素コーテイング技術の開発
株式会社ジャパン・アドバンスト・ケミカルズ、愛知工業大学、KISTEC電子技術部
地球温暖化の原因とされるCO2排出を抑制することが出来る新エネルギーとして水素ガスの利用が注目されています。水素ガスの課題としては電解プロセスで用いる電極表面の劣化とそれを抑制する為に用いられる素材がほぼ貴金属であるプラチナに限定され、非常に高価である点です。本研究開発ではこの課題を化学的に安定であり単純な工程で被覆可能な炭化ケイ素成膜技術を持つ（株）ジャパン・アドバンスト・ケミカルズの用途開発ニーズと、高い成膜技術を持つ愛知工業大学のシーズ、薄膜分析技術のKISTECが共同で事業化に取り組んでいます。
初年度では様々な安価な卑金属上へのSiCコーティングを実施し、コーティング表面の観測を行いました。コーティングの表面形状は下地基板の元素及び温度に大きく依存することが分かりました。そのまた低抵抗化用のアルミニウムドーピングも行い、ドーピングによる成膜メカニズムへの影響が無く、低抵抗化の可能性を確認いたしました。
